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鎳金膜厚測(cè)試儀X-RAY膜厚儀XRF-2000L測(cè)厚儀

更新時(shí)間:2024-11-04

簡(jiǎn)要描述:

鎳金膜厚測(cè)試儀X-RAY膜厚儀XRF-2000L測(cè)厚儀
功能及特點(diǎn)
1. 采用X射線熒光光譜法無(wú)損測(cè)量金屬鍍層厚度,單鍍層,雙鍍層,多鍍層及合金鍍層,不限基材!
1. 鍍層元素范圍:鈦~鈾,包含常見(jiàn)的金、鎳、銅、銀、錫、鋅、金,鉻,鋅鎳合金等。
2. 鍍層層數(shù):可測(cè)5層。
3. 測(cè)量產(chǎn)品位置尺寸:標(biāo)準(zhǔn)配備0.2mm準(zhǔn)直器,測(cè)量產(chǎn)品大于0.4mm(可訂制更小準(zhǔn)直器)
4. 測(cè)量時(shí)間:通常15秒。

Micropioneer XRF-2000膜厚儀XRF-2020測(cè)厚儀


功能及特點(diǎn)產(chǎn)品行業(yè)及應(yīng)用:


測(cè)量各類(lèi)五金,電子連接器端子半導(dǎo)體等電鍍層厚度。

可測(cè)金,鎳,銅,鋅,錫,銀,鉻,銠,鉑,鋅鎳合金等鍍層。

可測(cè)單鍍層,雙鍍層,多鍍層,合金鍍層等。

適應(yīng)電鍍生產(chǎn)企業(yè),產(chǎn)品來(lái)料檢測(cè)半導(dǎo)體五金電鍍等相關(guān)行業(yè)。


鎳金膜厚測(cè)試儀X-RAY膜厚儀XRF-2000L測(cè)厚儀

功能及特點(diǎn)

1. 采用X射線熒光光譜法無(wú)損測(cè)量金屬鍍層厚度,單鍍層,雙鍍層,多鍍層及合金鍍層,不限基材!

1. 鍍層元素范圍:鈦~鈾,包含常見(jiàn)的金、鎳、銅、銀、錫、鋅、金,鉻,鋅鎳合金等。

2. 鍍層層數(shù):可測(cè)5層。

3. 測(cè)量產(chǎn)品位置尺寸:標(biāo)準(zhǔn)配備0.2mm準(zhǔn)直器,測(cè)量產(chǎn)品大于0.4mm(可訂制更小準(zhǔn)直器)

4. 測(cè)量時(shí)間:通常15秒。


全自動(dòng)臺(tái)面,自動(dòng)雷射對(duì)焦,多點(diǎn)自動(dòng)測(cè)量

儀器全系均為全自動(dòng)臺(tái),自動(dòng)雷射對(duì)焦!

多點(diǎn)自動(dòng)測(cè)量

可配多個(gè)或單個(gè)準(zhǔn)直器,準(zhǔn)直器大小可自動(dòng)切換

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韓國(guó)MicroP XRF-2020膜厚儀


鎳金膜厚測(cè)試儀X-RAY膜厚儀XRF-2000L測(cè)厚儀功能應(yīng)用:

檢測(cè)電子電鍍,五金電鍍,PCB板,LED支架半導(dǎo)體連接器等電鍍層厚度。

測(cè)量鍍金、鍍鋅、鍍鈀、鍍鉻、鍍銅、鍍銀、鍍錫、鍍鎳,鍍鋅鎳合金等

可測(cè)單層、雙層、多層、合金鍍層測(cè)量,不限底料

可測(cè)單鍍層,雙多鍍層,多鍍層及合金鍍層


鍍銀測(cè)量范圍0.1-50um

鍍鎳測(cè)量范圍0.5-30um

鍍銅測(cè)量范圍0.5-30um

鍍錫測(cè)量范圍0.5-50um

鍍金測(cè)量范圍0.02-6um

鍍鋅測(cè)量范圍1-30um

鋅鎳合金測(cè)量范圍1-25um

鍍鉻測(cè)量范圍0.5-25um


先鋒XRF-2020測(cè)厚儀韓國(guó)Micropioneer膜厚儀


儀器全自動(dòng)臺(tái)面,自動(dòng)雷射對(duì)焦,多點(diǎn)自動(dòng)測(cè)量

多個(gè)準(zhǔn)直器可選擇:0.1mm,0.2mm,0.3mm,0.4mm,0.03×0.5mm

可配多個(gè)或單個(gè)準(zhǔn)直器,準(zhǔn)直器大小可自動(dòng)切換



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